高(gao)溫高(gao)壓激光浮區單(dan)晶(jing)爐
高(gao)(gao)溫高(gao)(gao)壓激(ji)光(guang)浮(fu)區單晶生長爐具有占地空間小(xiao)、加熱效(xiao)率(lv)高(gao)(gao)、結(jie)構緊(jin)湊的(de)(de)(de)特點(dian),配以穩定可(ke)靠的(de)(de)(de)激(ji)光(guang)器,及(ji)高(gao)(gao)質量的(de)(de)(de)光(guang)路器件(jian),幾乎極少的(de)(de)(de)維護時間即可(ke)以開始您的(de)(de)(de)實驗或生產工作。
同時,該(gai)系統在懸浮(fu)控制(zhi)及(ji)激光功率(lv)調整裝置中,配(pei)置了手動及(ji)通(tong)過(guo)計算機的軟件控制(zhi)功能(neng);無論是(shi)單個試樣(yang)或是(shi)批量制(zhi)作,您可以根據需要(yao)進(jin)行靈(ling)活(huo)選(xuan)擇。
技術(shu)參數
| 機器型號 | RQM-0020 | RQM-0050 | RQM-0100 |
| 清洗寬度 | 0-80mm(可定制) | 0-80mm(可定制) | 0-80mm(可定制) |
| 激光功率 | 20W | 50W | 100W |
| 激光波長 | 1064±5nm | 1064nm±5nm | 1064nm±5nm |
| 適用材料 | 金屬表面 | 金屬表面 | 金屬表面 |
| 脈沖頻率 | 10-100KHZ | 10-100KHZ | 10-100KHZ |
| 清洗速度(浮銹) | 0.5-1.5m2/h | 1-3m2/h | 3-5m2/h |
| 掃描速度 | ≤6000mm/s | ≤6000mm/s | ≤6000mm/s |
| 設備功率 | ≤800W | ≤1000KW | ≤1500W |
| 定位精度 | ±0.03mm | ±0.03mm | ±0.03mm |
| 重復定位精度 | ±0.02mm/m | ±0.02mm/m | ±0.02mm/m |
| 冷卻方式 | 風冷 | 風冷 | 風冷 |
| 電力需求 | AC220V | AC220V | AC220V |
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